uv -фильтр K & f концепция Nano -c HMC UV - 82 мм

UV-фильтр K & F Concept Nano-C HMC UV является незаменимым инструментом в основном для каждого фотографа. Это не только будет эффективно защищать ваше оборудование от пыли, загрязнения и механических повреждений, но и поможет улучшить качество фотографий. Благодаря многослойному покрытию HMC (твердого многослого) и использованию японского оптического стекла фильтр гарантирует уменьшение отражения и отражателей, улучшая контраст и ясность фотографии. Ультра -высокая кадр 3,3 мм предотвращает эффект виньетирования. Набор также включает в себя пластиковый корпус, который обеспечит адекватную защиту фильтра в транспортировке.

Основные особенности продукта

• Ультрафиолетовый фильтр, совместимый с нитью 82 мм
• Защита линзы от пыли, загрязнения и отпечатков пальцев
• Дополнительная защита от механического повреждения линз передней линзы
• снижает эффекты ультрафиолетового излучения, улучшая качество атмосферных fog
• 18-слойное покрытие HMC (твердое много покрыто)

  отличная защита объектива

  Ваш объектив заслуживает лучшей защиты. УФ-концепция UV K & F Nano-C HMC UV-фильтр не только будет эффективно защищать его от отпечатков пальцев, пыли и царапин. Это также будет дополнительным барьером для защиты от механических повреждений, точно так же, как фольга, прикрепленная к экрану смартфона.

  УФ -защита

  Ульзовательное излучение, присутствующее в окружающей среде даже в, казалось бы, идеальных погодных условиях, может вызвать нежелательные эффекты, такие как запотевание, снижение контраста или размытие фотографий. UV K & F Concept Concept Nano-C HMC UV работает как невидимый барьер, через который проходит свет. Устраняет влияние ультрафиолетового радиуса на ваши фотографии, положительно влияя на ясность изображения.

  HMC Cotating

  ярлык "HMC" в случае фильтров линз означает «жесткий многослойный», который представляет собой многослойное покрытие. Его использование направлено на улучшение качества изображения за счет уменьшения отражений, отражателей и вспышек. Использование многих слоев, размещенных с обеих сторон фильтра, помогает уменьшить атмосферный туман, положительно влияя на контрастность и ясность ваших фотографий. Выбирая концепцию K & F Concept Nano-C HMC UV-фильтр, вы получите еще лучшее качество фотографий, уменьшая искажения и недостатки.

  японское качество

  Сердцем ультрафиолетового фильтра K & F Concept Nano-C HMC UV является японским стеклом, известным по всему миру благодаря его точности и высококачественному качеству. Он обеспечивает длительное использование и отличную передачу света без каких -либо компромиссов. Многослойное покрытие, предлагаемое фильтром, позволяет вам избавиться от нежелательных эффектов освещения от фотографий, гарантируя чистые и чистые рамки.

  Ultra -Highlight Profile

  Super UV Filter Frame K & F Концепция Nano-C HMC UV составляет всего 3,3 мм толщиной. Благодаря этому вам не нужно беспокоиться о эффекте виньетирования, даже если вы используете длинные телеобъективы, предлагающие большие фокусные расстояния. Ваши рамы останутся ясными и ясными, сохраняя полную прозрачность - руки на близких, а также очень широкие рамы.

  Совместимость

  • Линзы с потоком скрепления фильтров с диагоналем 82 мм

  Спецификация

  • Модель: UV-фильтр K & F Концепция Nano-C HMC UV-82 мм
  • Тип фильтра: уф
  • Используемое покрытие: твердое многословное (18 слоев)
  • Толщина: 3,3 мм
  • .

UV-фильтр K & F Concept Nano-C HMC UV является незаменимым инструментом в основном для каждого фотографа. Это не только будет эффективно защищать ваше оборудование от пыли, загрязнения и механических повреждений, но и поможет улучшить качество фотографий. Благодаря многослойному покрытию HMC (твердого многослого) и использованию японского оптического стекла фильтр гарантирует уменьшение отражения и отражателей, улучшая контраст и ясность фотографии. Ультра -высокая кадр 3,3 мм предотвращает эффект виньетирования. Набор также включает в себя пластиковый корпус, который обеспечит адекватную защиту фильтра в транспортировке.