3M 9432+ FFP3 Half -Mask Dust Mask № D Aura
- Время доставки: 7-10 дней
- Состояние товара: новый
- Доступное количество: 863
Просматривая «3M 9432+ FFP3 Half -Mask Dust Mask № D Aura», вы можете быть уверены, что данный товар из каталога «Маски» будет доставлен из Польши и проверен на целостность. В цене товара, указанной на сайте, учтена доставка из Польши. Внимание!!! Товары для Евросоюза, согласно законодательству стран Евросоюза, могут отличаться упаковкой или наполнением.
Half -Handmade 3M 9432+ Aura ffp3 no. жидкость. Оснащенная фильтром класса FFP3, маска гарантирует самый высокий уровень защиты в наиболее требовательных условиях труда. Отличная эргономика и инновационный дизайн серии Aura делают ношение маски удобной и дыханием даже во время долгосрочного использования.
Особенности продукта:
- Защитный класс FFP3 : самый высокий уровень защиты от пыли, дыма и тумана, обеспечивая эффективность фильтрации на минимальном уровне 99% для частиц до 0,6 мкм.
- Инновационная технология фильтров Постояние дыхания, обеспечивая комфорт при работе в трудных условиях.
- Складная структура : Трехэффективный дизайн облегчает хранение, транспортировку и сопоставление маски с различными формами лица.
- Удобство ношения : мягкий нос и регулируемый пояс нос и лицо.
- выпускной клапан Cool Flow ™ : уменьшает накопление тепла и влаги внутри маски, что увеличивает комфорт использования, особенно в горячих и влажных условиях. опасная пыль, аэрозоли и частицы с высокой концентрацией.
Приложение:
3m Aura 9432+. Материалы, которые генерируют небольшую опасную пыль, такие как асбест, кремнеземная пыль или гипс. Вирусы и бактерии.
Техническая спецификация:
- model : 9432+ Aura ffp3 no. Одно -временное использование
- Стандарты : en 149: 2001+A1: 2009
- Фильтрация : минимальная эффективность 99%
- Цель : защита от мелких постоянных и жидких частиц, патогены
3M 9432+ Aura FFP3 Half -Mask No. D -надежная защита от дыхания, сочетая передовые технологии фильтрации с комфортом использования, идеально подходит для профессионалов, работающих в сложных условиях.
