Поляризационный фильтр 49 мм MRC CPL K&F Concept Ultra-low Reflection

6942052515795 KF012473

Откройте для себя новое измерение фотографии с помощью фильтра CPL (круговой поляризационный фильтр) K&F Concept фильтр со сверхнизким отражением Nano-X. Это незаменимый элемент практически любого фотонабора, позволяющий точно управлять светом и создавать фотографии, полные деталей и идеально воспроизводимых цветов. Предназначен для прямой установки на объективы диаметром 49 мм.

Фильтр Ultra-low Reflection Nano-X изготовлен из высококачественного японского оптического стекла AGC, покрытого многослойным покрытием MRC (Multi Resistant Coating), обогащенным титаном. Это означает защиту линзы от царапин, повышенную устойчивость к воде и жиру, эффективное уменьшение отражений (≤ 0,1%) и высокий коэффициент пропускания света 45 %.

Технология, использованная при производстве, позволяет фильтру отсекать до 99,9% световых лучей с определенной поляризацией. На практике это позволяет зафиксировать гораздо больше деталей, невидимых человеческому глазу. Его поворотная конструкция, состоящая из двух навинченных друг на друга колец, позволяет быстро и точно менять систему поляризаторов, тем самым эффективно отсекая волны выбранной длины.

Крепёжная рамка изготовлена ​​из сплава магния и алюминия. Двойная резьба позволяет одновременно использовать дополнительные аксессуары, например, другие фильтры или солнцезащитные козырьки. Плотная накатка облегчает использование фильтра, его сборку и разборку. Оправа имеет низкий профиль (5,3 мм), что позволяет комбинировать фильтр с широкоугольными объективами.

Особенности

• Поляризационный фильтр MRC CPL с многослойным покрытием
• Антибликовое нанопокрытие
• Титановое покрытие
• Устранение поляризованных волн до 99,9%
• Пропускание света: ≥ 45%
• Эффективное уменьшение отражений
• Японская оптическая система AGC стекло
• Алюминиево-магниевый каркас
• Устойчивость к разводам и жирным пятнам
• Легкая чистка
• Двойная резьба
• Толщина: 5,3 мм
• Диаметр: 49 мм