K&F CONCEPT 58MM HMC UV NANO-K ЗАХИСНИЙ УФ-ФІЛЬТР
- Время доставки: 7-10 дней
- Состояние товара: новый
- Доступное количество: 1
Просматривая «K&F CONCEPT 58MM HMC UV NANO-K ЗАХИСНИЙ УФ-ФІЛЬТР» данный товар из каталога «Кисти, ручки, чистящие средства», вы можете получить дополнительную скидку 4%, если произведете 100% предоплату. Размер скидки вы можете увидеть сразу при оформлении заказа на сайте. Внимание!!! Скидка распространяется только при заказе через сайт.
УФ-фильтр K&F Concept HMC Nano-K.
Особенности продукта:
- Материал линз: лучшее японское оптическое стекло с 18 слоями антибликового покрытия, которое может уменьшить свет, отраженный от поверхности фильтра.
- По сравнению с обычным УФ-излучением, поверхностное покрытие этой линзы гарантирует, что фильтр не будет плесневеть и запотевать при длительном использовании
- Рамка изготовлена из авиационного алюминия, а ультратонкая конструкция гарантирует отсутствие виньетирования на широком конце; Поверхность подвергнута оксидной пескоструйной обработке, что эффективно предотвращает попадание постороннего света.
- Оправа имеет трапециевидную конструкцию с ЧПУ, которая увеличивает трение во время вращения и позволяет устанавливать/снимать линзу в любое время и в любом месте.
- Диаметр: 58 мм
Используется японское оптическое стекло, которое защищает объектив от грязи, царапин, отпечатков пальцев и случайных повреждений. Сверхтонкая и легкая алюминиевая оправа максимально снижает влияние света и эффективно предотвращает появление затемненных углов широкоугольного объектива. 18 многослойных покрытий эффективно восстанавливают качество изображения, не оказывая негативного влияния на цвет фотографий. Этот УФ-фильтр уменьшает дымку и повышает контрастность видео и цифровых изображений, сводя к минимуму количество ультрафиолетового (УФ) света и помогая устранить синеватый оттенок на изображениях.