K&F Concept Nano-C HMC UV УФ-фильтр - 77 мм

УФ-фильтр K&F Concept Nano-C HMC UV — незаменимый инструмент в наборе инструментов каждого фотографа. Он не только эффективно защитит вашу технику от пыли, грязи и механических повреждений, но и поможет улучшить качество ваших фотографий. Благодаря многослойному покрытию HMC (Hard Multi-Coated) и использованию японского оптического стекла фильтр уменьшает отражения и блики, улучшая контрастность и четкость фотографий. Ультратонкая рамка толщиной 3,3 мм предотвращает виньетирование. В комплект также входит пластиковый чехол, который обеспечит должную защиту фильтра при транспортировке.

Основные характеристики изделия

• УФ-фильтр совместим с резьбой 77 мм
• защищает объектив от пыли, грязи и отпечатков пальцев
• дополнительная защита от механических повреждений передней линзы
• снижает воздействие УФ-излучения, улучшая качество фотографий
• идеально подходит для пейзажной фотографии – устраняет атмосферные воздействия матовость
• из высококачественного японского оптического стекла
• 18-слойное покрытие HMC (Hard Multi-Coated)
• ультратонкая оправа (толщина 3,3 мм) предотвращает виньетирование на широкоугольных объективах
• защитный чехол в комплекте

Отличная защита объектива

Ваш объектив заслуживает лучшей защиты. УФ-фильтр K&F Concept Nano-C HMC UV не только эффективно защитит его от отпечатков пальцев, пыли и царапин. Это также будет дополнительный барьер, защищающий от механических повреждений, подобно фольге, наклеенной на экран смартфона.

УФ-защита

УФ-излучение, присутствующее в окружающей среде даже в, казалось бы, идеальных погодных условиях, может вызвать нежелательные эффекты, такие как дымка, потеря контрастности или размытие фотографий. УФ-фильтр K&F Concept Nano-C HMC UV действует как невидимый барьер, через который проходит свет. Оно устраняет воздействие ультрафиолетовых лучей на ваши фотографии, положительно влияя на четкость изображения.

Покрытие HMC

Аббревиатура «HMC» в случае фильтров для линз означает «Hard Multi-Coated», то есть многослойное покрытие. Его использование призвано улучшить качество изображения за счет уменьшения отражений, бликов и бликов. Использование нескольких слоев, расположенных по обе стороны фильтра, помогает уменьшить атмосферную дымку, положительно влияя на контрастность и четкость ваших фотографий. Выбрав УФ-фильтр K&F Concept Nano-C HMC, вы получите еще лучшее качество фотографий, уменьшив искажения и дефекты.

Японское качество

Сердцем УФ-фильтра K&F Concept Nano-C HMC является японское стекло, известное во всем мире своей точностью и высоким качеством. Это обеспечивает долгосрочное использование и отличную светопроницаемость без каких-либо компромиссов. Многослойное покрытие фильтра эффективно удалит нежелательные световые эффекты с фотографий, обеспечивая чистоту и четкость кадров.

Сверхтонкий профиль

Сверхтонкая рамка УФ-фильтра K&F Concept Nano-C HMC имеет толщину всего 3,3 мм. Благодаря этому вам не придется беспокоиться об эффекте виньетирования, даже если вы используете длиннофокусные объективы с большим фокусным расстоянием. Ваши кадры останутся четкими и отчетливыми, сохраняя полную прозрачность - как на крупных, так и на очень широких планах.

Совместимость

• объективов с резьбой для крепления фильтра диагональю 77 мм

Спецификация

• модель: УФ-фильтр K&F Concept Nano-C HMC UV - 77 мм
• Тип фильтра: УФ
• Применяемое покрытие: Hard Multi-Coated (18 слоев)
• Толщина: 3,3 мм
• диаметр: 77 мм

Содержимое комплекта

• K&F Concept Nano-C HMC UV UV фильтр - 77 мм
• защитный футляр