Фільтр поляризації CPL K&F Концепція Nano-X Ultra-Low Reflection 62mm

6942052515832 KF012477

k & f концепція nano-x Ultra-Low Reflection -це інноваційний, мульти-листовий поляризаційний фільтр , створений для найвибагливіших фотографів. Це основний, а іноді і незамінний елемент професійного набору фотографій. Це дозволяє контролювати світло, записувати більше деталей на знімках, витягуючи насичені кольори та покращуючи контраст. Розроблений для встановлення на лінзах зі стандартним різьбленням діаметром 62 мм .

Ультра-низькі фільтри серії відбиття створюються за допомогою високого класу японського оптичного скла AGC , покритому багатошаровим покриттям MRC titanium . Це захищає лінзи від подряпин та утворення осколків, а також підвищує стійкість до осадження забруднення з води та олії. nano-powłoki ефективно зменшують відбивачів (≤ 0,1%) і забезпечують проникність світла на рівні 45%.

Інноваційна технологія виробництва означає, що фільтри усувають стільки, скільки 99,9% легких променів із специфічною поляризацією, що дозволяє ефективно зменшити відбиття, що з’являються на склі, воді або різних типах неметалічних поверхонь. 4

Скляні лінзи встановлюються в міцній гнучкій рамі магнію та алюмінієві . Щільне храм полегшує встановлення фільтра та демонтаж, а подвійний різьблення одночасне використання інших аксесуарів. Рамка фільтра товщиною 5,3 мм, завдяки якому поляризатор також можна використовувати з широкими кутовими лінзами.

фатчі

• мульти -гексис -поляризаційний фільтр MRC Cpl
• антирефлективна нано -оболонка
• Титанове покриття
• Елімінація поляризованих хвиль до 99,9%
• Японії> Agc. Алюміній-магнезійна рама
• стійкість до плям та жирних плям
• Легке очищення
• Подвійна нитка
• Товщина: 5,3 мм
• Діаметр: 62 мм