Ультрафіолетовий фільтр

UV NANO-X MRC

Призначено для камер FujiFilm:

• X100VI
• X100V
• X100F
• X100T
• X100S
• X100

ФІЛЬТР НАЙВИЩОЇ ЯКОСТІ

РОЗРОБЛЕНО ДЛЯ ПРОФЕСІОНАЛІ

ФІЛЬТР З ІННОВАЦІЙНИМ НАНОПОКРИТТЯМ

• Фільтр запобігає відблискам і відблискам, а також забезпечує бездоганну чіткість зображення
• < b >Кольори залишаються природними та чіткими
• Фільтр зменшує туман, який може виникнути на морі чи в горах
• Ultra HD - висока оптична роздільна здатність використовуваного скла
• 28 нано-антиблікових та захисних покриттів
• Фільтр водонепроникний і стійкий до подряпин
• Кільце з алюмінію, оснащене трапецієподібним візерунком, що полегшує встановлення та зняття фільтра
• Передня рамка фільтра є магнітною і може можна поєднувати з магнітними фільтрами K&F CONCEPT діаметром 52 мм
• Фільтр також може бути оснащений кришкою K&F CONCEPT, призначеною для системи (також доступна в нашій пропозиції)
• У комплект входить міцна упаковка для зберігання фільтра

Продукція компанії: K&F CONCEPT - безперечний лідер якості у виробництві фотофільтрів

МОДЕЛЬ: KF01.2703 / UV MRC

Компанія K&F CONCEPT представляє високоякісні, професійні UV фільтри. Це високоякісні фільтри, небагато фільтрів можуть зрівнятися за якістю виготовлення та рівнем прогресу.

Фільтр має кілька десятків нанопокриттів, нанесених на оптичне скло.

Ультрафіолетовий фільтр – УФ поглинає ультрафіолетове випромінювання, відсікаючи випромінювання, яке є найінтенсивнішим в умовах, де повітря надзвичайно прозоре (особливо в горах і біля моря), і яке спричиняє ефект туману на фотографії.

Фільтр UV NANO-X MRC не тільки покращує якість фотографій, але й забезпечує відмінний захист об’єктива від усіх видів пилку, жиру, пилу та механічні пошкодження.

Особливості фільтра K&F UV NANO-X MRC:

• Виготовлений з найякіснішого японського оптичного скла, завдяки якому пропускна здатність світла значно вища та перевищує 99,9%
• Фільтр має спеціальні нанопокриття, які значно зменшують відблиски та покращують зроблені фотографії
• Фільтр також покритий покриттями, які є високостійкими до подряпини і механічні пошкодження. Покриття значно полегшує очищення фільтрів і запобігає надмірному притягуванню пилу, пилку та інших видів забруднювачів.
• Надтонка й легка ТОНКА алюмінієва рама
• Відмінне співвідношення ціни та якості

Фільтр підходить, зокрема, до таких камер FujiFilm:

• X100VI
• X100V
• X100F
• X100T
• X100S
• X100

• Фільтр покритий покриттями, які характеризуються високою стійкістю до подряпин і механічних пошкоджень. Вони забезпечують чудовий захист фільтра навіть у найскладніших умовах
• Фільтр має покриття, які значно полегшують очищення фільтра та запобігають надмірному притяганню пилу, пилку та інших типів забруднень
• Фільтр має водонепроникні

• Передня рамка фільтра є магнітною та може комбінуватися з магнітними фільтрами K&F CONCEPT діаметром 52 мм
• Кришка K&F CONCEPT також можна приєднати до фільтра, призначеного для системи (доступний окремо в нашій пропозиції)

У комплекті:

• 1x УФ-фільтр
• 1x тверда, жорстка упаковка для запобігання подряпинам, пошкодженням і полегшення транспортування фільтра

Приклад використання фільтра K&F CONCEPT NANO-X MRC

Увага! Фотокамери, об'єктиви, штативи та інші додаткові аксесуари, показані на фотографіях, наведені лише для ілюстрації та не є предметом продажу.

Новий продукт, в оригінальній упаковці.

Код продукту (SBcode): SB9093