K&F Concept Nano-C HMC UV УФ-фільтр - 82 мм

УФ-фільтр K&F Concept Nano-C HMC UV є незамінним інструментом у наборі інструментів кожного фотографа. Він не тільки ефективно захистить вашу техніку від пилу, бруду та механічних пошкоджень, але й допоможе підвищити якість фотографій. Завдяки багатошаровому покриттю HMC (Hard Multi-Coated) і використанню японського оптичного скла, фільтр зменшує відблиски і відблиски, покращуючи контрастність і чіткість фотографій. Надтонка рамка товщиною 3,3 мм запобігає віньєтування. У набір також входить пластиковий футляр, який забезпечить належний захист фільтра під час транспортування.

Основні характеристики продукту

• УФ-фільтр сумісний з різьбою 82 мм
• захищає об’єктив від пилу, бруду та відбитків пальців
• додатковий захист від механічних пошкоджень переднього елемента об’єктива
• зменшує вплив УФ-випромінювання, покращуючи якість фотографії
• ідеально підходить для пейзажної фотографії – усуває атмосферне помутніння
• виготовлено з високоякісного японського оптичного скла
• 18-шарове покриття HMC (Hard Multi-Coated)
• надтонка рамка (3,3 мм завтовшки) запобігає віньєтування на ширококутних об’єктивах
• захисний футляр у комплекті

Чудовий об’єктив захист

Ваш об'єктив заслуговує на найкращий захист. УФ-фільтр K&F Concept Nano-C HMC UV не тільки ефективно захистить його від відбитків пальців, пилу та подряпин. Також це буде додатковий бар’єр від механічних пошкоджень, як фольга, наклеєна на екран смартфона.

Захист від ультрафіолетового випромінювання

Ультрафіолетове випромінювання, присутнє в навколишньому середовищі навіть за, здавалося б, ідеальних погодних умов, може спричинити такі небажані ефекти, як помутніння, втрата контрасту або розмиті фотографії. УФ-фільтр K&F Concept Nano-C HMC UV діє як невидимий бар’єр, через який пропускається світло. Він усуває вплив УФ-променів на ваші фотографії, позитивно впливаючи на чіткість зображення.

Покриття HMC

Абревіатура «HMC» у випадку фільтрів для лінз означає «Hard Multi-Coated», тобто багатошарове покриття. Його використання призначене для покращення якості зображення шляхом зменшення відблисків, відблисків і спалахів. Використання кількох шарів, розміщених з обох боків фільтра, допомагає зменшити атмосферний туман, що позитивно впливає на контрастність і чіткість ваших фотографій. Вибравши УФ-фільтр K&F Concept Nano-C HMC, ви отримаєте ще кращу якість фотографій, зменшивши спотворення та недосконалості.

Японська якість

Серцем УФ-фільтра K&F Concept Nano-C HMC є японське скло, відоме в усьому світі своєю точністю та високою якістю. Це забезпечує тривале використання та відмінну світлопроникність без жодних компромісів. Багатошарове покриття, запропоноване фільтром, ефективно видаляє небажані ефекти освітлення з фотографій, забезпечуючи чисті та чіткі рамки.

Ультратонкий профіль

Надтонка рамка K&F Concept Nano-C HMC UV УФ-фільтра має товщину лише 3,3 мм. Завдяки цьому вам не доведеться турбуватися про ефект віньєтування, навіть якщо ви використовуєте довгострокові телеоб’єктиви з великою фокусною відстанню. Ваші рамки залишаться чіткими та чіткими, зберігаючи повну прозорість – як на крупних планах, так і на дуже широких кадрах.

Сумісність

• лінзи з різьбленням для кріплення фільтра з діагоналлю 82 мм

Специфікація

• модель: УФ-фільтр K&F Concept Nano-C HMC UV - 82 мм
• тип фільтра: УФ
• використане покриття: тверде багатошарове покриття (18 шарів)
• товщина: 3,3 мм
• діаметр: 82 мм

Вміст набору

• K&F Concept Nano-C HMC UV УФ-фільтр - 82 мм
• захисний футляр