Retix C Ultra Repair Nano-Mask 1 шт

Професійна маска для післяпроцедурного догляду.

Показання

• Почервоніла та роздратована шкіра.

Композиція/Дія

Завдяки використанню технології нановолокна, що створює тривимірну структуру біоцелюлози, забезпечується дуже висока абсорбція та активне вивільнення трьох форм гіалуронової кислоти та ектоїну - EctoHyal Complex 3.0.

Біоцелюлоза, як матеріал, що використовується в косметології та медицині для регенерації, ідеально прилягає до зони обробки, створюючи ефект другої шкіри.

Активні інгредієнти маски заспокоюють, знімають почервоніння та неприємну стягнутість.

БІСАБОЛОЛ – інгредієнт із сильними протизапальними та заспокійливими властивостями. Прискорює процес загоєння та заспокоює роздратовану та чутливу шкіру.

ECTOHYAL COMPLEX 3.0 - це комбінація унікальних властивостей ектоїну та трьох форм гіалуронової кислоти для оптимального, багаторівневого зволоження та заспокоєння подразнень шкіри.

Ектоїн захищає шкіру від фотостаріння, зміцнює бар’єрну функцію та підтримує функції відновлення, а також є інгредієнтом із доведеною дією проти старіння.

Додаток

Маску слід обережно вийняти із захисної упаковки, потім розгорнути та видалити синій шар.

Нанесіть маску на обличчя так, щоб вона ідеально прилягала до шкіри.

Залиште на шкірі приблизно на 20 хвилин, потім зніміть маску та помасажуйте надлишки продукту.

Запобіжні заходи

Використати відразу після відкриття. Зберігати в недоступному для дітей місці.

INCI

Аква (вода), гліцерин, пропіленгліколь, поліакрилат-13, поліізобутен, естоїн, п-анісова кислота, хлорфенезин, гіалуронат натрію, молочна кислота, гідроксид натрію, бісаболол, полісорбат 20, 0-цимен-5-ол, Сорбітан ізостеарат, фітат натрію, етилгексилпальмітат, тригідроксистеарин.

Продукт призначений для використання професіоналом.