Retix C Ultra Repair Nano-Mask 1 шт.

Професійна маска для післяпроцедурного догляду.

Показання

• Почервоніла та роздратована шкіра. 

Склад/Дія

Завдяки використанню технології нановолокон, що створює тривимірну структуру біоцелюлози, забезпечується дуже висока абсорбція та активне вивільнення трьох форм гіалуронової кислоти та ектоїну - EctoHyal Complex 3.0.

Біоцелюлоза, матеріал, який використовується в косметології та медицині для регенерації, ідеально прилягає до зони лікування, створюючи ефект друга шкіра.

Активні інгредієнти маски заспокоюють, зменшують почервоніння та неприємне відчуття стягнутості.

БІСАБОЛОЛ - інгредієнт з дуже сильною анти- протизапальні та заспокійливі властивості. Прискорює процес загоєння, заспокоює подразнену та чутливу шкіру.

ECTOHYAL COMPLEX 3.0 - це поєднання унікальних властивостей ектоїну та трьох форм гіалуронової кислоти для оптимального багаторівневого зволоження та полегшення подразнення шкіри.

Ектоїн захищає від фотостаріння шкіри, зміцнює бар’єрну функцію та підтримує функції відновлення, це інгредієнт із доведеною дією проти старіння.

Застосування

Маску потрібно обережно вийняти із захисної упаковки, потім розгорнути та видалити синій шар.

Нанесіть маску на обличчя, щоб вона ідеально прилягала до шкіри.

Залиште на шкірі приблизно на 20 хвилин, потім зніміть маску та втирайте надлишки продукту.

Заходи запобіжні заходи 

Використати відразу після відкриття. Зберігати в недоступному для дітей місці.

INCI

Aqua (Water), Glycerin, Propylene Glycol, Polyacrylate-13, Polyisobutene, Estoin, p- Анісова кислота, хлорфенезин, гіалуронат натрію, молочна кислота, гідроксид натрію, бісаболол, полісорбат 20, 0-цимен-5-ол, сорбітан ізостеарат, фітат натрію, етилгексилпальмітат, тригідроксистеарин.

Продукт призначений для використання професіоналами.